住友電気工業株式会社(本社:大阪市、社長:松本正義 以下、住友電工)とS.O.I. TEC Silicon On Insulator Technologies S.A.(本社:フランス パリ市、CEO:André – Jacques Auberton-Hervé (アンドレ・ジャック・ オベルトン・アルベ)、以下、Soitec )は、4インチ径及び6インチ径の薄膜GaN(窒化ガリウム)基板の製造に成功し、このたび量産に向けたパイロット製造ラインの整備を開始しました。
住友電気工業株式会社(本社:大阪市、社長:松本正義 以下、住友電工)とS.O.I. TEC Silicon On Insulator Technologies S.A.(本社:フランス パリ市、CEO:André – Jacques Auberton-Hervé (アンドレ・ジャック・ オベルトン・アルベ)、以下、Soitec )は、4インチ径及び6インチ径の薄膜GaN(窒化ガリウム)基板の製造に成功し、このたび量産に向けたパイロット製造ラインの整備を開始しました。