CoWoS™ プロセスを採用した世界初の ヘテロジニアス 3D IC のテスト用デバイスを共同開発 [アルテラ]

日本アルテラ株式会社

アルテラ・コーポレーション(本社: 米国カリフォルニア州サンノゼ、社長、CEO 兼会長:ジョン・デイナ、日本法人: 東京都新宿区西新宿、代表取締役社長:日隈 寛和、NASDAQ: ALTR、以下、アルテラ)と TSMC(本社: 台湾新竹、NYSE: TSM)は、米国時間3月22日、TSMC の CoWoS(Chip on Wafer on Substrate、チップ・オン・ウエハ・オン・サブストレート)統合プロセスを採用した、世界初のヘテロジニアス 3D IC のテスト用デバイスを共同開発したことを発表しました。

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