除菌・脱臭に利用できる世界初のオゾンハイドレートを開発 [IHI]

株式会社IHI(所在地:東京都江東区,社長:満岡 次郎,以下「IHI」)とグループ会社であるIHIプラント建設株式会社(所在地:東京都江東区,社長:大澤 祐介,以下「IPC」)は,このたび,慶應義塾大学理工学部 大村 亮教授と共同で,除菌・脱臭に優れた,オゾンハイドレートの実用的な製造技術(以下「本技術」)の開発に世界で初めて成功しました。

http://www.ihi.co.jp/ihi/all_news/2018/resources_energy_environment/2018-8-31/index.html