リソグラフィーパターンを反映できる回路特性解析システムを開発 [産総研]

独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)ナノエレクトロニクス研究部門【研究部門長 金丸 正剛】ナノスケール計測・プロセス技術研究グループ 福田 浩一 主任研究員らは、大規模集積回路(LSI)の基板上に転写する回路パターン(リソグラフィーパターン)の詳細な形状を反映できる回路特性解析システムを開発した。

http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2013/pr20130416/pr20130416.html

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