絶縁部分が4μmの次世代高温超伝導ワイヤを開発 [理化学研究所]

理化学研究所(理研、野依良治理事長)と千葉大学(齋藤康学長)は、次世代の超伝導ワイヤとして期待されるレアアース系の「次世代高温超伝導ワイヤ」の絶縁部分の厚さを従来の10分の1となる4μmにすることに成功しました。これは、理研ライフサイエンス技術基盤研究センター(渡辺恭良センター長)構造・合成生物学部門 NMR施設の前田秀明施設長、柳澤吉紀基礎科学特別研究員、高橋雅人上級研究員らと、千葉大学大学院工学研究科の中込秀樹教授らとの共同研究グループによる成果です。

http://www.riken.jp/pr/press/2013/20130812_1/

 

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