理化学研究所（理研）創発物性科学研究センター強相関物性研究グループの茂木将孝研修生（東京大学大学院工学系研究科博士課程1年）、十倉好紀グループディレクター（同教授）、強相関界面研究グループの川﨑雅司グループディレクター（同教授、科学技術振興機構CREST研究代表者）、強相関量子伝導研究チームの川村稔専任研究員、東北大学金属材料研究所の塚﨑敦教授らの共同研究グループ※は、磁性層と非磁性層を交互に積み重ねた「トポロジカル絶縁体[1]」積層薄膜を開発し、磁気抵抗比[2]10,000,000％を超える、非常に巨大な磁気抵抗効果[2]を発見しました。