直射日光下でのパターン投影による高速形状計測に成功 [産総研]

国立研究開発法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)知能システム研究部門【研究部門長 河井 良浩】コンピュータビジョン研究グループ 佐藤 雄隆 研究グループ長、佐川 立昌 産業技術企画調査員は、直射日光のような強い外乱光がある環境でも、光源から対象物に投影した模様(パターン)を正確に検出して、高速に運動・変形する物体の形状を計測する手法を開発した。

http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2017/pr20170714/pr20170714.html

error: Content is protected !!
上部へスクロール