国立研究開発法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点の三成剛生MANA独立研究者のグループと、株式会社コロイダル・インクからなる研究チームは、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO) 若手研究グラント事業の支援を受け、線幅・線間1ミクロンの解像度で金属配線および薄膜トランジスタ (TFT) を形成する印刷技術を開発しました。この手法によってフレキシブル基板上にチャネル長1ミクロンの有機TFT を形成し、実用レベルの動作を確認しました。
国立研究開発法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点の三成剛生MANA独立研究者のグループと、株式会社コロイダル・インクからなる研究チームは、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO) 若手研究グラント事業の支援を受け、線幅・線間1ミクロンの解像度で金属配線および薄膜トランジスタ (TFT) を形成する印刷技術を開発しました。この手法によってフレキシブル基板上にチャネル長1ミクロンの有機TFT を形成し、実用レベルの動作を確認しました。